应用材料的创新Pattern-Shaping技术降低成本、复杂性和先进的芯片制造的环境影响

2023加州圣克拉拉,2月29日/ 3提单媒体/ -应用材料公司今天公布了一项突破模式技术,允许芯片制造商创建高性能的晶体管和互连布线用更少的EUV光刻的步骤,从而降低成本,复杂性和环境影响先进的芯片。

客户越来越多地使用EUV双模式打印芯片功能小于分辨率的极限EUV优化芯片面积和成本。使用EUV双模式,芯片制造商将一半的高密度模式和生产两个面具坚持的EUV分辨率限制。两部分中间模式相结合的模式电影然后蚀刻到晶片。虽然双模式有效地增加功能密度,它的设计和模式增加了复杂性,随着流程步骤,消耗时间,能源、材料和水,增加晶圆厂和晶片生产的成本。

介绍了应用材料Centura^®Sculpta^®模式系统

帮助芯片制造商继续缩小设计没有增加成本,复杂性,和能源和原材料消耗的EUV双模式,应用材料与主要客户紧密合作开发Centura Sculpta模式系统。芯片制造商现在可以打印一个EUV模式,然后使用Sculpta系统伸长方向选择的形状在任何减少之间的空间特性和增加模式密度。因为最终的模式创建从一个面具,设计成本和复杂性降低,风险收益率double-patterning对齐错误就被消除了。

EUV双模式需要大量增加生产过程的步骤一般包括CVD沉积模式电影,CMP清洗、光刻胶沉积和删除,EUV光刻,eBeam计量、模式电影蚀刻和晶片清洗。对于每个EUV双模式序列它取代,Sculpta系统可以为芯片制造商提供:

• 资本成本节省大约2.5亿美元每100 k晶圆开始每月的生产能力
• 节省生产成本大约50美元每片
• 节能的超过15千瓦时/晶片
• 直接温室气体排放减少0.35公斤以上的有限公司₂相当于每个晶片
• 水节省大约15升/晶片

“新Sculpta系统是一个很好的例子,材料工程的进步如何补充EUV光刻帮助芯片制造商优化芯片面积和成本,同时也应对日益增长的经济和环境挑战先进的芯片,“Prabu拉贾博士说,高级副总裁兼总经理半导体产品组的应用材料。“Sculpta系统的独特ribbon-beam pattern-shaping技术结合应用的深度知识和材料去除技术创建一个突破性的创新模式工程师的工具箱”。

客户和行业的评论

摩尔定律”,促使我们进一步计算性能和密度,模式塑造被证明是一个重要的新技术,可以帮助降低制造成本和过程的复杂性,和节约能源和资源,”Ryan罗素说,逻辑技术开发公司副总裁英特尔(Intel corp .)“在优化与应用材料密切合作Sculpta我们的流程架构,英特尔将部署pattern-shaping功能帮助我们提供降低设计和制造成本,过程周期时间和环境的影响。”

“三个关键问题时必须考虑推动模式的局限性:翼展间距,桥梁缺陷模式和线边缘粗糙度,“说Jong-Chul公园,铸造大师蚀刻技术团队在三星电子。“作为一个早期创新pattern-shaping技术开发合作伙伴,我相信应用Sculpta系统是一个迷人的突破,解决这些模式挑战全球芯片制造商和降低制造成本。”

“应用材料新Sculpta系统是一个模式的革命,带来了一个全新的芯片制造商的能力,”副主席Dan Hutcheson说。”作为行业持续推动芯片扩展的极限,我们需要突破应用的pattern-shaping技术,可以提高芯片,性能、面积和成本,同时降低设计成本,和能源和材料消耗。Sculpta是最创新引入以来,晶圆CMP过程一步。”

Sculpta系统收到主要芯片制造商和高利息被选中作为生产工具的记录的多个步骤制造大容量逻辑。

关于应用Sculpta附加信息系统”将在公司的讨论新的方法来缩小:先进的模式产品推出“今天事件被关押。

前瞻性陈述
本新闻稿中包含前瞻性陈述,包括那些有关预期的增长,我们的企业和市场的趋势,行业前景和需求驱动,技术转换,我们的市场份额,我们的新产品和技术的开发,我们的产品的预期成本节约和环境效益和其他语句不是历史事实。这些语句及其基本假设受风险和不确定性,并不能保证未来的性能。

因素,可能导致实际结果不同物质的表达或暗示这些语句包括,但不限于:引进新的和创新的技术,和技术转移的时机;我们能够开发、交付和支持新产品和新技术;市场接受现有的和新开发的产品;我们能够获得和保护知识产权的关键技术;对我们产品的需求,满足客户需求的能力和供应商的能力来满足我们的需求要求;消费者对电子产品的需求;半导体的需求;客户的技术和能力要求;我们能够准确预测成本节约和环境效益从使用我们的产品;我们提交给SEC的备案文件中描述和其他风险和不确定性,包括我们最近的形式的10和公布。 All forward-looking statements are based on management’s current estimates, projections and assumptions, and we assume no obligation to update them.

对应用材料
应用材料公司(纳斯达克:还领导在材料工程解决方案用于生产几乎所有新的芯片和世界上先进的显示。我们的专业知识在修改材料在原子水平和工业规模使客户把可能性变成现实。在应用材料,我们的创新使可能的一个更好的未来。学习更多在www.appliedmaterials.com。

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